蚀刻尺寸的自然就是纳米级光刻机，也就是最好的asl浸润式光刻机。
其实所有量产的65n以下制程的芯片，都是用的asl193n浸润式光刻机。包括英te尔、三新、台级电、台连电、globalfoundry，还有国内的中芯、华宏半导体等。这个光刻机，从来没有禁售这回事。用这同一款光刻机，台级电能做到7n，三新能做到10n，中芯目前只能做到28n。
这还仅仅是机器上的差距，事实上，最关键不是这些而是芯片的集成电路设计。对投资几百亿甚至上千亿的芯片工厂而言，一颗芯片流片失败就可能导致企业滑向破产的边缘。
毕竟，晶圆上面的集成电路不是本来就有的，是一次次试错后的无数天才工程师的心血结晶。
目前最先进的光刻机是asl的波长13n的极紫外光刻机，一台售价12亿美元，一年产量10台多一点。这个国内在2019年也会拥有一台。光从价格来看，国内并不是买不起asl，而是买来了用不到。所以最大的差距不是设备是技术，而技术就是约等于人才储备积累从量变到质变。
事实上，asl也不是一开始就一家独大，开始的时候是尼康，佳能和asl三足鼎立。那个时候的光刻机都是干式的，没有液体参与。但asl是因为当时落后于另外两家才开始豪赌浸润式光刻机。最后赌赢了。
所以很多伟大的公司并不是一开始就伟大的，其实很多也是在赌。但赌的底气就是技术积累。从这一点上说，其实人才才是第一生产力，其余都是浮云。
唐玄生问道：“莫非是催化剂加入后，能减少坏点？”
关子
第五十六章 圆晶(3/4)